Position adjusting method of internal member in epitaxial growth device

エピタキシャル成長装置における内部部材の位置調整方法

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a position adjusting method of an internal member in an epitaxial growth device with which positioning can be performed with high precision, a chamber is not required to be opened to the atmosphere, a position adjusting time of an internal member can be shortened and intrusion of pollution into the chamber can be suppressed.SOLUTION: A sensor fixing ring 28 in which an optical sensor 29 is fixed to the face of a clamp ring 14 is provided, and the positional relationship between a susceptor 16 and a pre-heat ring 18 provided around the susceptor 16 is detected with base plate 27 as a reference height by the optical sensor 29. The fixing position of the optical sensor is moved every detection to repeat the detection at plural times. The inclination of the susceptor 16 to the horizontal plane and the height dispersion of the susceptor 16 to the pre-heat ring 18 are calculated on the basis of the plural detection results of the positional relationship. The position of a pedestal is adjusted on the basis of the calculation result, and at least one of the inclination of the susceptor 16 and the height dispersion is corrected under the state that an upper dome 12 is fixed to the clamp ring 14.
【課題】高い精度での位置出しが可能であり、チャンバーを大気開放する必要がなく、内部部材の位置調整時間を短縮でき、チャンバー内への汚染の持ち込みを抑制することが可能なエピタキシャル成長装置の内部部材の位置調整方法を提供する。 【解決手段】クランプリング14の上面に光学センサ29を取り付けたセンサ取付け用リング28を設け、光学センサ29によりベースプレート27を基準高さとしてサセプタ16とこのサセプタ16の周囲に設けられたプレヒートリング18の位置関係を検出し、、検出毎に光学センサの取付け位置を移動して複数回繰返す。検出した複数の位置関係からサセプタ16の水平面に対する傾き度と、サセプタ16のプレヒートリング18に対する高さバラツキを算出する。算出結果に基づいて台座位置を調整してサセプタ16の傾き度又は高さバラツキの少なくとも1つを上側ドーム12をクランプリング14に固定した状態で是正する。 【選択図】図1

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Patent Citations (3)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2005068502-AMarch 17, 2005Sharp Corp, シャープ株式会社気相成長装置
    JP-2007012664-AJanuary 18, 2007Sumco Corp, 株式会社Sumcoエピタキシャル成長装置およびその製造方法、エピタキシャルウェーハ
    JP-H0471225-AMarch 05, 1992Nec Kyushu LtdVapor phase growth equipment

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